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第169章 筹备光刻机（第3页）

不过很快他就将之抛在脑后，忙起了今天的工作，发布会在即，他要操心的事情可真不是少。

随着银河科技的摊子铺开，曾经无所事事的员工们可以说越来越忙，很多事都要他亲自处理。

“要不再招点人？”

陈谦心中想道。

毕竟现在公司员工们，不仅要在工厂当保安，还要监督施工进度，更要忙货物的交接，确实有些过分了。

哪怕自己给他们涨到三万的月薪，也不能这么折腾啊！

想到这，他将尤静叫到办公室吩咐了一番。

上午的时间很快过去，陈谦随便点了个外卖，吃完便打开了系统界面。

数学：4

物理：3

生物：3

化学：2

信息：2

材料工程：2

……

一次电池的推演加上这段时间随机推演的助力，让所有知识都进化了一次，堪称大丰收！

“是时候推演光刻机了。”

陈谦自语道。

18年在即，贸易战与科技制裁即将开始，光刻机无疑是兵家必争之地。

芯片这颗明珠，可以算的上是华国最难摘下的其中之一，更是与老百姓生活息息相关的产品。

“不能让提升老百姓的生活质量，我还搞什么科技！”

说着，陈谦点开了定向推演，不过他并没有直接输入光刻机，而是输入了“EUV光刻机光源系统”

。

简单来说，EUV光刻机是由光源系统，光学系统，掩膜系统，投影光学系统和步进系统等部分组成。

光源系统通常由高亮度、高稳定的激光系统产生波长为13.5nm的极紫外光，并通过一系列的反射和透射镜等光学元件，进行光路传输和光束整形。

光学系统包括一系列反射镜和透射镜等光学元件，对极紫外光进行操控和处理，实现高精度和高分辨率的光刻。

掩膜系统则是用于制作光刻胶上的图案与组件，投影光学系统是将掩膜上的图案，投影到光刻胶表面，形成所需微型结构组件。

而步进系统则是用于控制光刻胶与掩膜相对运动，也就是位置与精度。

想要研发出最强的光刻机，无疑必须要在全方位进行突破，这才能真正达到摩尔定律的极限。