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第100101章 极紫外光刻技术（第1页）

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何星舟打开量子光脑，查看相关技术。

首先是芯片，在芯片分类上，主要分为碳基芯片、硅基芯片两类，当然，还有一种光量子芯片，即所有信息都存储在一团“光”

之中。

“我就是光量子芯片技术制造的。”

量子光脑说道。

听到它这么说，何星舟莫名连想到了光之巨人，“有没有高级文明，可以把自己变成光？”

量子光脑：“当然有，有的高级文明生物完全舍弃了硅基或者碳基元素构成的身体，变成了纯能量体。”

“那种级别的文明，已经是宇宙中少有的文明。”

何星舟收回思绪，继续从碳基芯片和硅基芯片网上看，碳基芯片里，就有生物芯片技术，蛋白质芯片、基因芯片、细胞芯片、组织芯片……

即便是最基础的生物芯片设计知识，解锁也需要十万单位能源！

而硅基芯片里，就有蓝星人类当前的芯片发展路线。

“解锁7纳米制程硅基芯片设计知识，需要五万单位能源。”

“解锁5纳米制程硅基芯片设计知识，需要十万单位能源。”

“解锁3纳米制程硅基芯片设计知识，需要十五万单位能源。”

再往下，还有2纳米、1纳米甚至埃米级别的，必须要逐一解锁，但何星舟觉得没有必要。

因为当芯片制程低于3纳米时，制造难度会直线上升，而且会面临量子的遂穿效应，让部分晶体管失效。

这个时候，可以改变硅基材料，采用新型材料制作……可何星舟一看，比这种芯片更高级的量子芯片知识，解锁也只需要五十万单位能源，性能直接碾压这些传统计算芯片。

有那个能源点和精力，解锁量子芯片，它不香吗？

何星舟直接把这三个级别的硅基芯片解锁，花费了三十万单位能源。

量子芯片等待之后再解锁，因为现在全国都等着用高端硅基芯片，量子芯片还不急。

除此之外，便是光刻机的相关知识。

光刻机也在超精密加工技术里，何星舟去年解锁了超精密加工的切削技术，研发出了龙腾系列机床。

这次得解锁“超精密特种加工技术”

，需要能量点十万点。

“制造光刻机，还需要光刻胶。”

光刻胶又叫光致抗蚀剂，是一种耐蚀剂刻薄膜材料，半导体加工时需要这种材料。

光刻胶这东西，也在白鹰等的列表中。

“紫外光刻胶，适用于436纳米-365纳米光刻技术，解锁需要一万单位能源。”

“深紫外光刻胶，适用于248纳米-193纳米光刻，解锁需要三万单位能源。”

“极紫外光刻胶，常用于11纳米-14纳米光刻，解锁需要五万单位能源。”

“辐射线光刻胶，用于更高分辨率光刻，需解锁上述所有光刻胶后方能解锁。”

何星舟要用到的，便是极紫外光刻胶，目前世界上最先进的光刻机，也就是极紫外光刻机，它可以制造出3纳米制程的硅基芯片。

又是八万单位能源，何星舟将光刻胶材料技术也解锁掉。

最后，便是最重要的光刻机制造技术了。

光刻机，号称是目前人类工业技术的巅峰作品！