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第167章 为装过的逼（第1页）

中午，余子贤的加急检查报告出来了。

医生诊断，余子贤的反复发烧是由于上呼吸道感染后引起的下呼吸道轻微感染，好在一点是肺部未出现炎症。

简而言之，病症只是一般的春季常见的病毒性感冒！

由于余子贤忙关于工作、休息不规律，再加上着凉抵抗力下降，一时被病毒入侵了。

而之前反复发烧的原因是感染情况控制欠佳……

医生开了针对感染类型的治疗药物之后，再次叮嘱余子贤按时服药，同时需休息避免再次受凉病情加重。

就这样余子贤出院了，带着医生开的药物，其中就有自助退烧的“缸内用药”

。

下午下班之后，曹飞他们回来汇报，目前干法刻蚀设备、磁控溅射设备、离子注入设备、硅片处理系统设备的采购商，进展相对顺利，已经有了比较正常的初步报价。

因为在干法刻蚀设备、磁控溅射设备、离子注入设备、硅片处理系统这些设备上，生产厂家相对较多，厂家之间的竞争也比较大，所以给香积电他们的选择余地大一些。

而且他们采购的设备都是好几年前研发出来的设备，相对于最新设备指标，差了两个代差，所以阻力才小。

虽然这些厂家在干法刻蚀设备等设备的报价上相比其他厂家的采购价要高个10-20%，但是至少算是可以接受的价格。

尽管此时除了光刻机的其他设备厂家报价已经超过了900万美金的价格。

现在，香积电的采购任务卡在了光刻机上……

“余总，我们目前正在和尼康、佳能作进一步接触，尽可能的得到他们给我们超高报价的原因和细节……”

“好的，辛苦你们了。”

曹飞又走了。

现在余子贤真的很头疼，尼康和佳能万一真的一口咬定不降价怎么办？难道真的要找这个时候的ASML？不知道ASML他们生产的光刻机和此时其他日厂的生产的那些离子注入机等设备配套性怎么样？

目前，在光刻机的研发和制造能够跟上主流节奏就是尼康、佳能和ASML。

1982年，在IBM的KantiJain开创性的提出了“excimerlaserlithography（准分子激光光刻）”

之后，准分子激光光刻机器（步进和扫描仪）在全球集成电路生产中得到广泛使用。

现在芯片制造中的最小特征尺寸是0.5微米（200nm）。

而在其关键作用的就是达到这个最小特征尺寸光刻机的制造。

其中光刻机的制造有两道难关：

第一道难关是光刻机的曝光光学系统，由数枚镜片串联组成；而此时ASML镜头组由光学仪器公司德国蔡司独家生产，至于尼康和佳能，自身就是光学镜片的生产厂家。

第二道难关是光刻机的激光光源。

光刻用准分子激光器光源需要窄线宽、大能量和高脉冲频率，这些参数互相矛盾，研制难度极大。

光源制造商Cymer是一家美国公司，其余的制造商是东芝和松下等曰本公司。

所以，这些光刻机关键的基础设计研究都被掌握在日美欧厂家的手里。